導入事例

半導体関連マスクの微細な回路パターンが静電気で損傷するのを防ぐ対策が必須。

当社では、ICパッケージの回路を転写するのに使用される半導体関連マスクを数多く製造しています。特に微細な回路パターンを作るフォトマスクの製造工程では、静電気の放電により一気に電流が流れるとパターンを損傷してしまうため、その対策が必須です。当社では、この問題に対してバータイプの除電機器を使ってきましたが、確実に除電効果を得るには充分な時間を要するなど、課題もありました。

高濃度イオンを充分な風量でワイドに放出。
静電気を短時間で一気に除去可能。

シャープのEco&Businessソリューションフェアに足を運んだ際、会場で展示されていた除電特化型プラズマクラスターイオン発生機を見て、自社での活用を検討。デモ機を使って工場内でテストを行ってみると、充分な風量でワイドに効率よく高濃度プラズマクラスターイオンを放出できることが分かり、高く評価できました。また、静電気の帯電量も短時間で一気に少なくなっていることから、高い除電効果があると納得しました。

10kV超の静電気を約1秒^※で1kV以下に除電。
大幅な作業効率アップが期待できます。

現在、ウエス（布）を使用してフォトマスクを清掃する工程に、除電特化型イオン発生機を活用しています。袋から取り出したウエスには、10kVを超える強い静電気が帯電することがあり、今までは確実に除電するために、10秒程度の時間が掛かっていました。シャープのイオン発生機を使うことで、1秒足らずで一気に1kV以下まで帯電量を落とすことができるため、大幅な作業効率アップにつながります。

印刷工場での紙の除電にも活かしたい。
より最適な設置法を検討しながらテスト導入中。

半導体関連マスク工場で得られた除電効果を基に、印刷工場でも活用を検討。印刷・製本工程において、静電気のために重ねた紙が揃わなかったり、裁断後の不要な紙が重なった紙の間に挟まることを防ぐためテストを開始しました。今後は、より効果的でスタッフの作業の支障になりにくい設置方法を探りながら、本格導入につなげていきたいと考えています。