バルク型結晶シリコン太陽電池に次ぐ次世代の太陽電池として，各種の薄膜太陽電池の開発が盛んに行われている。シリコン結晶薄膜太陽電池は，非晶質シリコンセルと同様の手法で作製できること，光劣化現象が無いこと，更には，バルク型結晶シリコン太陽電池と同等の信頼性が期待できるという利点を有することから，次世代の太陽電池として最も期待されている一つであるが，実用化のためには，より一層の変換効率の向上が不可欠である。本稿では，光電流増大と結晶粒界抑制の双方を両立させることにより変換効率の向上を達成した，結晶薄膜太陽電池に適した光閉じ込め構造，及び，その作製技術について，同じ薄膜太陽電池である非晶質シリコン太陽電池での技術と比較し報告する。
Nowadays, research and development of several kinds of thin film solar cell are being extensively done as the successor of the bulk crystalline Si solar cell, which is dominant solar cell in the PV (photovoltaic) market today. A microcrystalline silicon thin film solar cell is the first candidate for the successor because of its several advantages. In order to make this candidate the successor actually, higher performance should be achieved. This article describes a novel textured structure of the transparent electrode, which is optimized to the microcrystalline silicon thin film solar cell, for the light trapping.
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