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オゾン水でレジストを分解除去。 |
光学顕微鏡によるテストサンプルの表面観察写真
(上面から撮影) |
ハイドーズイオン注入された レジストも除去可能。 (ハーフアッシングによる前処理を推奨)
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走査型電子顕微鏡によるテストサンプルの表面観察写真
(斜め上から撮影) |
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オゾン水でレジストを分解除去。 |
光学顕微鏡によるテストサンプルの表面観察写真
(上面から撮影) |
ハイドーズイオン注入された レジストも除去可能。 (ハーフアッシングによる前処理を推奨)
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走査型電子顕微鏡によるテストサンプルの表面観察写真
(斜め上から撮影) |