ホーム高濃度オゾン水製造ユニット

高濃度オゾン水製造ユニット

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2012.04.20
薬液レスでフォトレジストや有機汚染物の除去を実現。

シャープは、70℃、150mg/L 以上の過飽和状態にある高濃度オゾン水で、LSI/MEMS/LED/FDP の生産分野における洗浄プロセスを革新します。
製品写真
半導体等のデバイス生産の分野において、フォトレジストを含む有機物の除去には、主にSPM (硫酸と過酸化水素水との混合物) が用いられてきました。
しかしながら、近年では、地球環境保全の観点から、環境負荷の小さい洗浄方法が求められています。
このような背景をもとに、シャープでは、環境負荷が小さく、且つ、SPMに代わる洗浄剤として有望な高温・高濃度のオゾン水を生成する装置を開発しました。
この装置で生成可能なオゾン水は、最高温度70℃において、150mg/L 以上 (標準保証値) の高い濃度のものです。
そのオゾン水の外観は、高い濃度を反映し、濃いオゾンブルーが観察されます。

超純水 無色透明高濃度オゾン水 濃いオゾンブルー
  • 特長
  • レジスト除去処理への適用事例
  • リーフレット
  • お問い合わせ
    E-mail: info-sms@sharp.co.jp
    本製品の詳細につきましては、
    ご説明にお伺いいたします。

ホーム高濃度オゾン水製造ユニット
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