半導体等のデバイス生産の分野において、フォトレジストを含む有機物の除去には、主にSPM (硫酸と過酸化水素水との混合物) が用いられてきました。
しかしながら、近年では、地球環境保全の観点から、環境負荷の小さい洗浄方法が求められています。
このような背景をもとに、シャープでは、環境負荷が小さく、且つ、SPMに代わる洗浄剤として有望な高温・高濃度のオゾン水を生成する装置を開発しました。
この装置で生成可能なオゾン水は、最高温度70℃において、200mg/L 以上 (標準保証値) の高い濃度のものです。
そのオゾン水の外観は、高い濃度を反映し、濃いオゾンブルーが観察されます。